k-Space ra mắt giải pháp đo lường màng mỏng mới nhất

k-Space Associates đã công bố ra mắt công cụ đo lường màng mỏng mới nhất của mình, kSA XRF (huỳnh quang tia X). Nó đo độ dày màng cho các vật liệu quá mỏng để đo quang học đáng tin cậy. Kỹ thuật này đã được chứng minh là có thể đo các lớp bán dẫn và điện môi trên các tấm kính, tấm mỏng và chất nhạy cảm cho các ứng dụng trong năng lượng mặt trời, năng lượng và các thiết bị màng mỏng khác.

Giám đốc điều hành k-Space Darryl Barlett tuyên bố rằng “chúng tôi đã phát triển kSA XRF trong khi giúp một trong những khách hàng hiện tại của chúng tôi đo lớp phủ điện môi không thể đo được bằng các phương pháp quang học truyền thống. XRF đo lớp phủ điện môi dưới 100 nanomet và có thể được sử dụng bởi các nhà sản xuất tấm kính, tấm pin mặt trời, chất mang MOCVD và các sản phẩm khác. Đó là một tùy chọn vượt trội và có khả năng mở rộng hơn so với các công cụ hiện có và dễ dàng lắp đặt vào các dây chuyền.”

kSA XRF sử dụng nguồn tia X, máy dò và phần mềm độc quyền để đo phổ phát xạ tia X, sau đó được sử dụng để tính toán độ dày của màng trong thời gian thực. Nó đo các loại nguyên tử thích hợp dựa trên công thức lớp phủ độc đáo và nhu cầu đo lường của khách hàng. kSA XRF có thể được cấu hình để thiết lập trên bàn độc lập hoặc trên một băng tải để kiểm tra trong dây chuyền và kiểm soát quy trình sản xuất.

Theo Giám đốc điều hành Barlett, “kSA XRF cho phép người dùng mô tả và giám sát các lớp phủ màng mỏng của họ trong quá trình sản xuất, do đó tăng năng suất và giảm chi phí.”